[发明专利]一种双面透明导电材料的激光蚀刻工艺方法在审
| 申请号： | 202010829683.7 | 申请日： | 2020-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN111906448A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 陈刚;袁聪;林少辉;汪伟;方小春 | 申请（专利权）人： | 湖北吉事达科技有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/50 |
| 代理公司： | 江苏殊成律师事务所 32265 | 代理人： | 杨桂平 |
| 地址： | 430070 湖北省孝感市孝感*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双面透明导电材料的激光蚀刻工艺方法，工艺步骤：1）采用椭偏仪测试在可见光波段范围内，双面透明导电材料的A面B面导电膜层的折射率nA，nB以及基材（无导电层的）的折射率nc；2）计算所述材料的A面和B面所对应的全反射角θA，θB；3）将1所述材料A面朝上，放在工作平台上，将激光蚀刻机加工头与工作平台的角度θwork≥θA，进行图档的蚀刻。4）同样要求将材料翻面B面朝上，进行图档的蚀刻。5）双面线路蚀刻工作结束，材料的A面和B面即制作出了对应的图案。采用全反射原理进行光路调整，无折射光进入基材及反面的导电膜层，保证正面膜材激光蚀刻后完全对反面膜材无任何损伤，具体较好的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 透明 导电 材料 激光 蚀刻 工艺 方法 | ||
【主权项】：
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