[发明专利]固溶体多铁薄膜、制备方法及应用于5G存储技术的电子器件在审

专利信息
申请号: 202010814984.2 申请日: 2020-08-13
公开(公告)号: CN113248248A 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 贾婷婷;胡芳;方伟;于淑会;孙蓉 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: C04B35/40 分类号: C04B35/40;C04B35/26;C04B35/622;C04B35/624;G11C11/14;G11C11/22
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 诸炳彬
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本申请涉及一种固溶体多铁薄膜、制备方法及包含该多铁薄膜的应用于5G存储技术的电子器件。薄膜为赝钙钛矿结构的复杂氧化物固溶体,化学式如下:(1‑x1x2)LM(1‑y)/2FeyN(1‑y)/2O3x1Rx2Q;其中,y=0~1,x1=0~1,x2=0~1,x 1+x 2≤1;L选自Bi、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu或Y中的一种或多种;M、N分别选自Mg、Ti、Hf、Co、Mn、Ni或Zr,可相同或不同;R是LFeO3;Q是L、M、N的氧化物;薄膜为菱方相和正交相的固溶体,为多晶。薄膜具有更大的室温电极化强度,更低的室温漏电流密度。
搜索关键词: 固溶体 薄膜 制备 方法 应用于 存储 技术 电子器件
【主权项】:
暂无信息
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