[发明专利]电子设备和在电子设备中生成气体氧化剂成分的方法有效
| 申请号： | 202010789195.8 | 申请日： | 2020-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN112349308B | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | S·D·V·鲁本;R·S·古德曼;P·S·泰勒;P·A·贝蒂;D·J·普拉尼;K·H·冯;P·W·维耶 | 申请（专利权）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分类号： | G11B33/14 | 分类号： | G11B33/14;B01D53/28;H01M12/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 黄嵩泉;何焜 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及含能主动生成气体氧化剂成分并释放到其内部空间的组合物的电子设备、相关子组件和方法。本公开涉及包括在该电子设备的内部气体空间内主动地生成气体氧化剂的组合物的电子设备。本公开还涉及包括容器的电子设备，该容器以如下方式包括气体氧化剂：气体氧化成分可以从容器转移到该电子设备的内部气体空间。本公开还涉及相关的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 电子设备 生成 气体 氧化剂 成分 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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