[发明专利]成膜装置和成膜方法有效
| 申请号： | 202010744041.7 | 申请日： | 2020-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN112321856B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 野泽秀二;山口达也 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L75/04;C08L75/02;B05D1/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜装置和成膜方法，能够提高形成于基板的有机膜的膜厚度的均匀性。通过气相沉积聚合在基板上进行聚合物的有机膜的成膜的成膜装置具备处理容器、气体供给部、浓度分布控制部以及温度分布控制部。处理容器收容基板。气体供给部向处理容器内供给第一单体的气体和第二单体的气体。浓度分布控制部控制处理容器内的气体的流动，以使包含第一单体的气体和第二单体的气体的混合气体的在基板上的浓度成为预先决定的分布。温度分布控制部控制基板的温度分布，以使基板的与混合气体的浓度高的区域对应的区域的温度比基板的与混合气体的浓度低的区域对应的区域的温度高。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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