[发明专利]基板处理装置及元件制造方法在审
| 申请号： | 202010743918.0 | 申请日： | 2016-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN111781807A | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 小宫山弘树;加藤正纪;铃木智也;奈良圭 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/24;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 刘金凤;赵燕力 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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