[发明专利]一种多磁场集成阴极弧源有效
申请号: | 202010737079.1 | 申请日: | 2020-07-28 |
公开(公告)号: | CN112048701B | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 郎文昌;胡晓忠;刘伟 | 申请(专利权)人: | 温州职业技术学院 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 朱海晓 |
地址: | 325000 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明属于真空镀膜技术关键部件阴极弧源技术装备领域,具体涉及一种多磁场集成阴极弧源,包括阴极组件、阳极组件,所述阳极组件套设在阴极组件外且之间绝缘设置;所述阳极组件中设有第一磁极;所述阴极组件一端固定有靶材,所述阴极组件内设有第一空腔,所述第一空腔内设有第二磁极安装座,所述第二磁极安装座在第一空腔内可沿靶材轴向方向位移,所述第二磁极安装座上设有第二磁极;所述阴极组件远离靶材的一端设有电磁线圈。本发明通过利用阳极组件中的第一磁极和阴极组件内的可调节距离的第二磁极及电磁线圈相互作用,可在靶材表面形成较高的水平分量磁场强度,从而有利于弧光放电过程中增加电子的运动行程,提升等离子体的浓度及强度。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁场 集成 阴极 | ||
【主权项】:
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