[发明专利]一种具有电磁流变双效应的抛光装置在审

专利信息
申请号: 202010727093.3 申请日: 2020-07-27
公开(公告)号: CN113385988A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 高春甫;郑岚鹏;贺新升;傅晴;蒋佳杰;陈俊元;周崇秋 申请(专利权)人: 浙江师范大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B41/04;B24B29/00;B24B41/06;B24B51/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321004 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提出了一种具有电磁流变双效应的抛光装置,其结构包括:步进电机(1)、电机架(2)、联轴器(3)、抛光头外壳(4)、导电滑环(5)、紧定螺钉(6)、上电磁铁线圈(7)、上电磁铁铁芯(8)、弹性体外套(9)、工件夹具(10)、隔板(11)、压力应变片(12)、上电极片(13)、电磁流变弹性体(14)、工件(15)、下电极片(16)、工件底座(17)、下电磁铁铁芯(18)、下电磁铁线圈(19)、PWM直流电源B(20)、控制器(21)、高压直流电源(22)、PWM直流电源A(23)、惠斯通电桥(24)。一种具有电磁流变双效应的抛光装置作为一种可控柔性抛光装置,在加工零件时可通过压力应变片实时检测加工压力,随后通过控制电磁场来调节电磁流变弹性体的刚度,使其在抛光时具有固定的抛光力度,使得加工表面更加均匀,同时可根据不同加工零件的硬度调整不同的抛光力度。
搜索关键词: 一种 具有 电磁 流变 效应 抛光 装置
【主权项】:
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