[发明专利]一种基片架结构及真空蒸镀装置有效
| 申请号： | 202010699022.7 | 申请日： | 2020-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN111850501B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 黄稳;张敬娣;梁舰;宋祥慧;陈敏;顾婉莹;武启飞;冯敏强;廖良生 | 申请（专利权）人： | 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空蒸镀技术领域，公开一种基片架结构及真空蒸镀装置。其中基片架结构包括设置有冷却水缓冲区的基片架以及与冷却水缓冲区连通的水管和第一水口，还包括由靠近至远离基片架的方向依次套设于水管上的第一磁流体和第二磁流体；第一磁流体包括第一内管和第一外管，第二磁流体包括第二内管和第二外管，第一内管与基片架和第二外管连接，且第一内管能够沿进水管的轴线转动；第二内管的内壁与水管的外壁围成水通路，水通路一端与冷却水缓冲区连通，另一端与第一水口连通。本发明通过增设第二磁流体，一方面增加了密封效果，另一方面解决了密封圈在旋转时被磨损的问题，减少了基片架结构的维修次数，节约维修成本，增加了使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基片架 结构 真空 装置 | ||
【主权项】：
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