[发明专利]一种抛光装置及抛光组件在审
| 申请号： | 202010695885.7 | 申请日： | 2020-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN111805396A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 金泰源;张月;卢一泓;刘青 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B41/04;B24B47/12;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人： | 赵永刚 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抛光装置及抛光组件，该抛光装置用于抛光晶圆，该抛光装置包括能够旋转的转盘、设置在转盘上且具有抛光表面的抛光垫，在抛光垫的上方设置有用于向抛光表面喷洒抛光液的喷头。抛光表面划分为多个抛光区，且每个抛光区上设置有用于将该抛光区的抛光液排出的排液孔。还包括控制每个排液孔是否排出抛光液的控制阀门。通过将抛光表面划分为多个抛光区，在每个区上设置排液孔，还设置控制每个排液孔是否排出抛光液的控制阀门，以便于控制晶圆的不同位置处的抛光液的量。在应用时，晶圆上抛光量已经较大的区域，可以相应排出一些该区域所对应的抛光区上的抛光液的量，从而防止晶圆被过度抛光，以控制晶圆上成膜图形的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 装置 组件 | ||
【主权项】：
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