[发明专利]一种高分散性氧化锡锑高分子薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202010660801.6 | 申请日： | 2020-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN111960690A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 毛威;唐盛;戴帅帅;何静;沈薇;何万娇;唐良秀 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | C03C17/32 | 分类号： | C03C17/32;C01G30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 212008 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高分散性氧化锡锑高分子薄膜及其制备方法，该薄膜包括聚乙烯醇高分子薄膜和均匀分散在薄膜中的氧化锡锑纳米颗粒，该薄膜的制备方法包括以下步骤：(1)合成氧化锡锑粉末，并分散在水中，得得到氧化锡锑分散液；(2)取聚乙烯醇粉末加入水中，加热至完全溶解，得到聚乙烯醇溶液；(3)将氧化锡锑分散液加入到聚乙烯醇溶液中，混合均匀后涂覆在衬底上，即得到氧化锡锑高分子薄膜。该薄膜具有高透光性和高分散性，对可见光透过性高，对紫外光的吸收率，对红外光反射率高，因此能够作为镀膜应用在Low‑E玻璃上，其制备方法简单产率高以及重复性好，不产生二次污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分散性 氧化 高分子 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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