[发明专利]EMI屏蔽优化涂层及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010645972.1 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN111793435A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 周元康;邹涛;唐海军;邢敕天 申请(专利权)人: 苏州康丽达精密电子有限公司
主分类号: C09D187/00 分类号: C09D187/00;C09D5/24;C09D5/08;C09D7/61
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215111 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了EMI屏蔽优化涂层及制备方法,其中,EMI屏蔽优化涂层,包括涂层本体,所述涂层本体包括框架基层和石墨烯薄层,所述框架基层上附着有若干填料颗粒,所述框架基层为碳化ZIF‑8型金属有机框架,所述填料颗粒为纳米四氧化三铁颗粒,本发明作为一种EMI屏蔽优化涂料,可以方便的涂布于各种待屏蔽物件之上,起到附加的EMI屏蔽效果。其应用方式多样,应用局限性小,对基底材料不造成任何伤害反而可以起到保护效果,增加其耐磨性,耐腐性等特性。由于添加了四氧化三铁磁损耗材料,对应EMI低频段屏蔽效果得到提升。
搜索关键词: emi 屏蔽 优化 涂层 制备 方法
【主权项】:
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