[发明专利]EMI屏蔽优化涂层及制备方法

说明书

本发明公开了EMI屏蔽优化涂层及制备方法，其中，EMI屏蔽优化涂层，包括涂层本体，所述涂层本体包括框架基层和石墨烯薄层，所述框架基层上附着有若干填料颗粒，所述框架基层为碳化ZIF‑8型金属有机框架，所述填料颗粒为纳米四氧化三铁颗粒，本发明作为一种EMI屏蔽优化涂料，可以方便的涂布于各种待屏蔽物件之上，起到附加的EMI屏蔽效果。其应用方式多样，应用局限性小，对基底材料不造成任何伤害反而可以起到保护效果，增加其耐磨性，耐腐性等特性。由于添加了四氧化三铁磁损耗材料，对应EMI低频段屏蔽效果得到提升。

技术领域

本发明涉及EMI屏蔽技术领域，具体为EMI屏蔽优化涂层及制备方法。

背景技术

电磁干扰（Electromagnetic Interference 简称EMI），直译是电磁干扰，是指电磁波与电子元件作用后而产生的干扰现象，有传导干扰和辐射干扰两种。传导干扰是指通过导电介质把一个电网络上的信号耦合(干扰)到另一个电网络。辐射干扰是指干扰源通过空间把其信号耦合(干扰)到另一个电网络，在高速PCB及系统设计中，高频信号线、集成电路的引脚、各类接插件等都可能成为具有天线特性的辐射干扰源，能发射电磁波并影响其他系统或本系统内其他子系统的正常工作。随着信息技术的飞速发展，大量的电子通讯设备在交通、通讯、家用电器以及国防领域获得了广泛的应用。随着电子信息技术的发展，电磁波通信，探测，干扰等技术被普遍应用。这一方面方便了我们的生活，但在另一方面它也造成了严重的电磁波污染。面对近年来电子仪器的迅猛发展，航空航天，医疗保健等行业对高效微波屏蔽材料提出了更高的要求。

发明内容

本发明的目的在于提供EMI屏蔽优化涂层及制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

EMI屏蔽优化涂层，包括涂层本体，所述涂层本体包括框架基层和石墨烯薄层，所述框架基层上附着有若干填料颗粒，所述框架基层为碳化ZIF-8型金属有机框架，所述填料颗粒为纳米四氧化三铁颗粒。

优选的，所述涂层本体按重量份数计包括如下组分：30-50份的人工石墨、20-40份的纳米四氧化三铁粉、30-50份的碳化ZIF-8型金属有机框架、5-10份的分散剂、5-10份的粘合剂、15-17份的助剂。

优选的，所述助剂按重量份数计包括如下组分：1-3份的粘性掺杂剂、1-5份的聚氨酯流平剂、5-10份的对三氟甲氧基苯异氰酸酯。

优选的，所述分散剂为硬脂酸聚乙二醇酯、月桂酰基谷氨酸中的任一种，所述粘性掺杂剂为石英粉、氧化铝粉、钛白粉中的任一种或几种的混合物，所述粘性掺杂剂的粒径为650-700目，所述粘合剂为水性聚氨酯，所述石墨烯薄层为大尺度少层石墨烯、人工石墨、还原氧化石墨烯中的任一种。

EMI屏蔽优化涂层的制备方法，包括如下步骤：

S1、制备ZIF-8型金属有机框架，并进行碳化处理；

S2、采用水热法在特氟龙衬里的反应釜中，在高质量薄层石墨烯和碳化ZIF-8金属有机框架材料上原位生长四氧化三铁纳米颗粒；

S3、洗涤干燥后，加入分散剂，超声分散；

S4、加入其余的助剂均匀搅拌，涂布在目标材料表面，得到EMI屏蔽优化涂层。

优选的，所述ZIF-8型金属有机框架材料形状为笼状结构，粒径120-150mm，比表面积1500-2000BET，孔径10-12埃。

优选的，所述步骤S2中的具体处理步骤为：将碳化ZIF-8金属有机框架，高质量薄层石墨烯，和一定比例的六水合氯化铁，乙二醇，醋酸钠加入特氟龙衬里的反应釜中，200℃条件下处理8h，洗涤干燥得到成品粉体。

优选的，所述步骤S1中的碳化处理具体步骤为：