[发明专利]基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法及光刻机在审
| 申请号： | 202010635130.8 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111796487A | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;杨开明 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李玉琦;曹素云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于UV‑LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法及光刻机，方法包括：利用UV‑LED光源作为光刻光源，用于形成点阵式曝光场；所述UV‑LED光源的出射光束通过微透镜阵列在晶圆表面形成点阵式排列的多个曝光点区域，其中，晶圆安装在晶圆工件台上；曝光时，通过控制系统控制所述晶圆工件台进行步进扫描运动，完成对整块晶圆的曝光。本发明通过晶圆工件台的步进扫描运动，可以实现无限大曝光区域，并且，可以提高曝光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 uv led 光刻 光源 无掩模 扫描 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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