[发明专利]基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法及光刻机在审
| 申请号： | 202010635130.8 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111796487A | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;杨开明 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李玉琦;曹素云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 uv led 光刻 光源 无掩模 扫描 曝光 方法 | ||
1.一种基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，包括：
利用UV-LED光源作为光刻光源，用于形成点阵式曝光场；
所述UV-LED光源的出射光束通过微透镜阵列在晶圆表面形成点阵式排列的多个曝光点区域，其中，晶圆安装在晶圆工件台上；
曝光时，通过控制系统控制所述晶圆工件台进行步进扫描运动，完成对整块晶圆的曝光。
2.根据权利要求1所述的基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，所述晶圆工件台包括：XY运动台、Z轴晶圆卡盘、真空吸盘和气压缸，真空吸盘安装在XY运动台上，Z轴晶圆卡盘用于卡在晶圆的周边，气压缸用于将晶圆吸附在真空吸盘上。
3.根据权利要求2所述的基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，通过所述XY运动台在XY平面内的运动带动晶圆进行步进扫描运动。
4.根据权利要求1所述的基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，所述晶圆工件台进行步进扫描运动时，将晶圆工件台按照蛇形移动，并按照蛇形路线依次对各个曝光点区域进行扫描曝光。
5.根据权利要求1所述的基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，所述无掩模扫描曝光方法用于制作平面光栅。
6.一种基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，包括：
利用UV-LED光源作为光刻光源，用于形成曝光场；
所述UV-LED光源的出射光束通过微透镜阵列在晶圆表面形成多个曝光点区域，且多个曝光点区域的中心点位于同一直线上，其中，晶圆安装在晶圆工件台上；
曝光时，通过控制系统控制所述晶圆工件台进行旋转运动，完成对整块晶圆的曝光。
7.根据权利要求6所述的基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，所述晶圆工件台包括：XY运动台、Z轴晶圆卡盘、真空吸盘和气压缸，真空吸盘安装在XY运动台上，Z轴晶圆卡盘用于卡在晶圆的周边，气压缸用于将晶圆吸附在真空吸盘上。
8.根据权利要求7所述的基于UV-LED光刻光源的无掩模扫描曝光方法，其特征在于，通过所述Z轴晶圆卡盘绕Z轴的旋转运动带动晶圆进行旋转运动。
9.一种基于UV-LED光刻光源的无掩模光刻机，其特征在于，包括：
光源，采用UV-LED光源作为光刻光源，用于形成点阵式曝光场；
微透镜阵列，用于对UV-LED光源的出射光束进行聚焦，形成聚焦光束；
晶圆工件台，用于安装晶圆；
控制系统，用于控制驱动机构驱动晶圆工件台运动；
所述UV-LED光源的出射光束通过微透镜阵列在晶圆表面形成多个曝光点区域，多个曝光点区域呈点阵式排列或直线排列，
曝光时，若多个曝光点区域呈点阵式排列，则控制晶圆工件台进行步进扫描运动，若多个曝光点区域呈直线排列，则控制晶圆工件台进行旋转运动，完成对整块晶圆的曝光。
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