[发明专利]一种真空镀膜机磁控溅射控制机构在审
| 申请号： | 202010634665.3 | 申请日： | 2020-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN111647867A | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 赵淑鑫 | 申请（专利权）人： | 杭州企势科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及金属镀覆技术领域，且公开了一种真空镀膜机磁控溅射控制机构，包括箱体，所述箱体内部的底部固定连接有固定板。该真空镀膜机磁控溅射控制机构，当膜厚检测仪检测到金属镀件镀层厚度不均匀时，会启动电动机一使得齿轮一转动，移动板会左右移动，而挡板固定连接在移动板的右侧，使得挡板可以左右移动，从而达到了镀膜厚度均匀的效果。转动把手使得齿轮六转动，由于齿轮六与固定板啮合连接，使得齿轮六可以在固定板内部上下运动，从而使得喷溅靶可以上下运动，拉动拉杆使得支撑杆进入不同的凹槽内部，可以使得拉动杆拉动喷溅靶头部的角度发生改变，从而达到了根据需要调节喷溅靶位置的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 磁控溅射 控制 机构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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