[发明专利]一种基于成盐光气化制备低氯代杂质含量异氰酸酯的方法有效
| 申请号： | 202010618885.7 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111718282B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 李同和;王京旭;孙淑常;崔学磊;郝超;张翼强;何伟;郭耀允;方婷;尚永华 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团股份有限公司;万华化学（宁波）有限公司 |
| 主分类号： | C07C263/10 | 分类号： | C07C263/10;C07C265/14;C07C209/74;C07C211/50;C07C211/51;C07C211/12;C07C211/36;C07C211/58 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于成盐光气化法制备低氯代杂质含量异氰酸酯的方法。该方法成盐反应获得的盐颗粒粒径分布在平均粒径±30％范围内的比例占总粒径分布的70％以上，无搅拌的平均停留时间小于60min。相对于传统的方法，该方法获得的产品具有更低的氯代杂质含量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 成盐光 气化 制备 低氯代 杂质 含量 氰酸 方法 | ||
【主权项】：
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