[发明专利]一种自适应光学相干层析成像设备有效

专利信息
申请号: 202010574449.4 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN111568386B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 安其昌;刘欣悦;张景旭;李洪文;王越 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00;G02B7/18;G02B26/08
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王晓坤
地址: 130033 吉林省长春市*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 本申请公开了一种自适应光学相干层析成像设备,包括低相干光源,耦合器,参考臂,光谱仪,像散校正镜,物镜,抛物面镜;像散校正镜包括第一镜体;位于第一镜体上表面两个交叉设置且开口面向第一镜体上表面的U型支架,且每个U型支架开口两侧的侧壁位于第一镜体上表面的边缘;位于两个U型支架交叉区域的电加热片,电加热片包括加热杆和缠绕在加热杆表面的加热丝。像散校正镜中的两个U型支架交叉区域设有电加热片,通过电加热片加热与否产生的热胀冷缩,结合杠杆的放大作用,驱动U型支架移动,结构简单,且U型支架开口两侧的侧壁位于第一镜体上表面的边缘,即从缘处改变第一镜体的面形,避免“印透效应”,且专门对像散进行校正,校正范围宽。
搜索关键词: 一种 自适应 光学 相干 层析 成像 设备
【主权项】:
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