[发明专利]一种自适应光学相干层析成像设备有效
申请号: | 202010574449.4 | 申请日: | 2020-06-22 |
公开(公告)号: | CN111568386B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 安其昌;刘欣悦;张景旭;李洪文;王越 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | A61B5/00 | 分类号: | A61B5/00;G02B7/18;G02B26/08 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王晓坤 |
地址: | 130033 吉林省长春市*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种自适应光学相干层析成像设备,包括低相干光源,耦合器,参考臂,光谱仪,像散校正镜,物镜,抛物面镜;像散校正镜包括第一镜体;位于第一镜体上表面两个交叉设置且开口面向第一镜体上表面的U型支架,且每个U型支架开口两侧的侧壁位于第一镜体上表面的边缘;位于两个U型支架交叉区域的电加热片,电加热片包括加热杆和缠绕在加热杆表面的加热丝。像散校正镜中的两个U型支架交叉区域设有电加热片,通过电加热片加热与否产生的热胀冷缩,结合杠杆的放大作用,驱动U型支架移动,结构简单,且U型支架开口两侧的侧壁位于第一镜体上表面的边缘,即从缘处改变第一镜体的面形,避免“印透效应”,且专门对像散进行校正,校正范围宽。 | ||
搜索关键词: | 一种 自适应 光学 相干 层析 成像 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010574449.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。