[发明专利]一种真空腔中器件的更换装置和方法在审

专利信息
申请号: 202010573378.6 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN111852280A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 伍强;顾峥;李艳丽 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: E06B5/00 分类号: E06B5/00;E06B3/46;E06B7/232;E05C19/00;G03F7/20
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;马盼
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种真空腔中器件的更换装置,包括真空腔和缓冲腔,所述真空腔和缓冲腔之间通过隔板隔开,所述隔板上包括通孔、滑轨、可在滑轨中滑动且能够覆盖通孔的门板、均匀分布在通孔边上的可伸缩的锁扣、以及连接锁扣和门板的控制中心,所述锁扣包括垂直设置的伸缩轴和锁紧轴,所述锁紧轴位于所述伸缩轴的一端,所述伸缩轴的另一端嵌入在所述隔板中,所述门板与所述锁紧轴位于所述通孔的同一侧,所述缓冲腔中包含抓手和替换器件,当真空腔中器件需要被替换时,所述缓冲腔处于与真空腔相同的真空状态,所述抓手用缓冲腔中替换器件替换真空腔中器件。本发明公开了一种真空腔中器件的更换装置和方法,可以减少停机时间,提高设备的利用率。
搜索关键词: 一种 空腔 器件 更换 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010573378.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top