[发明专利]一种痕量气体分析装置以及方法有效

专利信息
申请号: 202010544161.2 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN111896677B 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 王魁波;吴晓斌;谢婉露;罗艳 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 付婧
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供一种痕量气体分析装置以及方法,其中,装置包括:采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测采样室真空度的真空计;采样管的出气口与采样室的进气口连通,采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口,工艺腔室输出的待测气体以分子流的流动状态经采样管输送至采样室;采样室的出气口与气体分析单元的进气口、吸附单元的进气口和真空泵组的抽气口分别连通。本申请待测气体以分子流的流动状态输送至采样室,从而消除了痕量气体采样时的分子歧视效应,痕量气体以外的气体被吸附单元吸附了,采样室内的痕量气体的分压和工艺腔室内的痕量气体的分压是相同的,即痕量气体具有较高的信号。因此,提高了痕量气体分析结果的准确度。
搜索关键词: 一种 痕量 气体 分析 装置 以及 方法
【主权项】:
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