[发明专利]设计平面通孔阵列滤光层的方法、滤光层及LCD背光屏有效
申请号: | 202010534748.5 | 申请日: | 2020-06-12 |
公开(公告)号: | CN111650778B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 邓文俊;朱伟明;臧冠兴 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357;G02F1/1335;G02B27/00 |
代理公司: | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人: | 陈选中 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种利用sinc函数系设计平面通孔阵列滤光层的方法、滤光层及LCD背光屏,方法包括采用LCD背光光源的辐射功率谱得到三种类型通光孔的面积比值;根据R/G/B子像素通光孔的数量,采用反傅立叶变换计算R/G/B子像素通光孔的宽度比和长度比;计算另外两种类型子像素通光孔的宽度比和长度比;根据三种类型通光孔长度比和宽度比及应用场景,确定每个通光孔的实际尺寸;将确定实际尺寸后的所有通光孔按照分布周期排列为子阵列后,并将子阵列中的通光孔旋转预设次数m,得到m+1组不同旋向的子阵列;根据分布周期,将m+1组子阵列等距排列成一个p*q的阵列,并分布于滤光层形成平面通孔阵列滤光层。 | ||
搜索关键词: | 设计 平面 阵列 滤光 方法 lcd 背光 | ||
【主权项】:
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