[发明专利]青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用在审

专利信息
申请号: 202010469470.8 申请日: 2020-05-28
公开(公告)号: CN113797334A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 关山月;杨雪婷;陆军;周树云 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: A61K41/00 分类号: A61K41/00;A61K9/14;A61K31/366;A61P35/00;B82Y5/00;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 赵晓丹
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用。所述复合材料包括:超薄水滑石纳米片,以及负载于其上的青蒿素或被聚合物保护的青蒿素和吲哚菁绿。其制备方法是:先用一种“自上而下”的方法合成超薄水滑石纳米片,然后通过超声搅拌青蒿素、吲哚菁绿等功能分子与超薄水滑石纳米片,合成所述复合材料。该复合材料在近红外光照射下实现近红外,光声成像的同时有效杀死肿瘤细胞;其中的青蒿素可进一步增强复合产物的治疗效率。该试剂有望用于肿瘤的临床诊断与协同治疗。
搜索关键词: 青蒿素 吲哚 超薄 滑石 纳米 复合材料 及其 制备 应用
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