[发明专利]一种缺陷检测装置及缺陷检测方法有效

专利信息
申请号: 202010432552.5 申请日: 2020-05-20
公开(公告)号: CN111551556B 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 赵赫 申请(专利权)人: 上海御微半导体技术有限公司
主分类号: G01N21/89 分类号: G01N21/89;G01N21/88
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201203 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种缺陷检测装置及缺陷检测方法。其中,缺陷检测装置包括探测模块、处理模块、运动台、同步控制模块以及至少两个光源,至少两个光源用于根据同步控制模块的控制信号交替发射脉冲光束,运动台用于根据同步控制模块的控制信号带动待测样品移入探测模块的探测视场,探测模块用于根据同步控制模块的控制信号周期性的获取待测样品的图像信息,处理模块用于对图像信息进行缺陷检测,其中,所述脉冲光束的持续时段与所述探测模块的曝光时段至少部分重叠,且V≤(W/N)/T,V为运动台的移动速度,W为探测视场的宽度,N为光源的数量,T为探测模块采集图像信息的探测周期。本发明提供的缺陷检测装置及缺陷检测方法,提高了检测效率。
搜索关键词: 一种 缺陷 检测 装置 方法
【主权项】:
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