[发明专利]一种用于提高光学薄膜光学性能的制备方法在审
| 申请号： | 202010422924.6 | 申请日： | 2020-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN111485203A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 郭春;孔明东 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于提高光学薄膜光学性能的制备方法，属于真空镀膜技术领域，主要针对光学薄膜制备过程中，光学薄膜表面粗糙度随膜层增加而增加，影响光学薄膜的反射率以及透过率光谱；以及光学薄膜膜层材料的化学计量比失衡，引起光学薄膜吸收损耗增加。基于高能离子束刻蚀技术，通过优化光学薄膜制备工艺参数，并在每层薄膜材料制备后，采用优化的离子束刻蚀参数对刚制备的光学薄膜进行在线处理，实现对光学薄膜结构致密性、表面粗糙度和化学计量比的优化，最终实现高性能光学薄膜的制备目的。本发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提高 光学薄膜 光学 性能 制备 方法 | ||
【主权项】：
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