[发明专利]一种晶硅熔炉用熔硅液面测距组件及晶硅熔炉在审
| 申请号： | 202010384718.0 | 申请日： | 2020-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN113684532A | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 杨文武;其他发明人请求不公开姓名 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/20 | 分类号： | C30B15/20;C30B29/06;G01B11/14;G01F23/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;陈丽宁 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶硅熔炉用熔硅液面测距组件及晶硅熔炉，所述晶硅熔炉用熔硅液面测距组件包括：挂钩部，所述挂钩部包括用于插入所述导流筒的安装孔内的横向杆和相对所述横向杆弯折的纵向杆，所述纵向杆包括相对的第一端和第二端，所述横向杆连接在所述纵向杆的所述第一端；接触部，所述接触部包括相对的第三端和第四端，所述第三端连接在所述纵向杆的所述第二端，且所述接触部与所述纵向杆同轴设置；其中，所述横向杆在垂直于该横向杆的轴线方向上的横截面形状为多边形。本发明提供的晶硅熔炉用熔硅液面测距组件及晶硅熔炉，可提高Melt Gap测量和控制的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 熔炉 用熔硅 液面 测距 组件 | ||
【主权项】：
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