[发明专利]具有图案的核孔膜的制造方法在审
| 申请号： | 202010380890.9 | 申请日： | 2020-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN111530297A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 吴振东;鞠薇;焦学胜;陈东风;黄青华 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院;瑞昌核物理应用研究院 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张成新 |
| 地址： | 102413 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种具有图案的核孔膜的制造方法，包括以下步骤：提供高分子材料薄膜；对高分子材料薄膜进行重离子辐照，以便在高分子材料薄膜中形成核径迹；对经过重离子辐照的高分子材料薄膜的至少一部分进行激光照射，以使高分子材料薄膜的至少一部分中的核径迹发生改变；对经过激光照射的高分子材料薄膜进行化学蚀刻，以便通过化学腐蚀使核径迹形成为微孔，同时在高分子材料薄膜的经过激光照射的至少一部分上和在未被激光照射的其余部分上产生不同的蚀刻效果，从而形成具有图案的核孔膜。本发明以简易、低成本且节约时间的方式制造具有图案的核孔膜，同时减少了胶黏剂和覆膜的使用，减少环境污染。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 图案 核孔膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院;瑞昌核物理应用研究院，未经中国原子能科学研究院;瑞昌核物理应用研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010380890.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
