[发明专利]磁记录介质和磁记录再现装置有效

专利信息
申请号: 202010376998.0 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN111916114B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 徐晨;张磊;福岛隆之;柴田寿人;山口健洋;丹羽和也;茂智雄;根本广明;梅本裕二;小柳浩 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/667 分类号: G11B5/667
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种磁记录介质和磁记录再现装置,所述磁记录介质的特征在于,具有:基板;在所述基板之上形成的底层;及在所述底层之上形成的磁性层。所述磁性层包含具有L10结构的合金。所述底层包含第1底层和第2底层,所述第1底层包含Mo和Ru,Ru的含量位于5at%~30at%的范围内,所述第2底层包含具有BCC结构的材料。所述第2底层形成在所述第1底层和所述基板之间。所述磁记录再现装置具有所述磁记录介质。
搜索关键词: 记录 介质 再现 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昭和电工株式会社,未经昭和电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010376998.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top