[发明专利]掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法在审
申请号: | 202010344381.0 | 申请日: | 2020-04-27 |
公开(公告)号: | CN111441013A | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 黎倩;曾佳 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;张博 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法。该掩膜板包括:掩膜板本体,包括多个间隔分布的通孔,包括主孔和与主孔连通的延伸孔,主孔用于使蒸镀材料透过制成像素图形,延伸孔用于使蒸镀材料透过制成像素图形的连接图形;沿预设方向排列的相邻两个通孔,与待蒸镀基板需要制成的沿预设方向排列的相间隔的两个像素图形一一对应;掩膜板本体上,沿预设方向排列的相邻两个通孔之间的最小间隔距离,大于或等于像素图形在预设方向上的尺寸,小于或等于通孔在所述预设方向上的最大尺寸。采用该一个掩膜板可以制作待蒸镀基板上的像素图形和像素图形的连接图形,能够解决现有技术掩膜板进行图形化的材料蒸镀,存在工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 采用 进行 方法 | ||
【主权项】:
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