[发明专利]光刻工艺质量评估方法及反馈控制系统有效
| 申请号： | 202010329640.2 | 申请日： | 2020-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN111221225B | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 张利斌;韦亚一;董立松;粟雅娟;陈睿;张世鑫 | 申请（专利权）人： | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京苏博知识产权代理事务所(普通合伙) 32411 | 代理人： | 陈婧 |
| 地址： | 211899 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻工艺质量评估方法及反馈控制系统，包括电子束显微图像模块、边界提取模块、功率谱密度模块、拟合模块、特征值分布模块和强度模块，利用电子束显微成像对光刻后的晶圆进行测量，得到电子束显微图像；然后利用边界提取算法提取被测结构的边缘轮廓；根据线条边缘粗糙度和宽度粗糙度数据，计算出功率谱密度；并利用拟合函数进行拟合，得到拟合参数和拟合曲线，根据多个曝光区域的特征参数，得到所述晶圆的特征值分布图，并根据多个晶圆在对应曝光区域下的特征值平均值，绘制本征强度图和随机强度图，能够直观看到结构图像的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 工艺 质量 评估 方法 反馈 控制系统 | ||
【主权项】：
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