[发明专利]一种考虑电子束雾化效应的解析布局方法有效
| 申请号： | 202010329230.8 | 申请日： | 2020-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN111507058B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 陈建利;黄志鹏 | 申请（专利权）人： | 福州立芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/3947 | 分类号： | G06F30/3947 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 丘鸿超;蔡学俊 |
| 地址： | 350100 福建省福州市闽侯县南*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种考虑电子束雾化效应的解析布局方法，包括如下步骤：1、布局框架：使用Λ型多层框架来处理布局中的大规模设计，以进行全局布局；2、雾化变化建模：对评估点进行采样，这些评估点均匀分布在整个布局中；利用雾源模型的评估点，通过带有Hermite展开的快速高斯变换估计每个评估点的雾化效果；3、设定一个同时考虑线长优化和雾化变化优化的目标函数；4、通过共轭梯度算法来优化布局线长长度；5、删除重叠的单元格部分，并使标准单元格对齐，以尽可能保留全局布局获得的布局结果；6、详细布局，通过计算交换面积变化系数，以决定是否在选定的标准单元进行交换。该方法有利于优化布局质量，在优化线长的同时减小雾化变化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 考虑 电子束 雾化 效应 解析 布局 方法 | ||
【主权项】：
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