[发明专利]光源系统以及投影显示装置在审
| 申请号： | 202010264969.5 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN113495419A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 胡飞;吴超;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G02B27/10 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 李庆波 |
| 地址： | 518052 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光源系统以及投影显示装置，该光源系统包括第一光源组件、第二光源组件、波长转换装置以及匀光装置，第一光源组件用于出射至少两束激发光；第二光源组件用于出射至少一束激光；波长转换装置设置于至少两束激发光的光路上，用于将接收的至少两束激发光转换为至少两束受激光；匀光装置用于对受激光和激光进行匀光处理；受激光和激光分别在匀光装置的入光侧形成受激光光斑和激光光斑，激光光斑位于两相邻的受激光光斑之间，两相邻的受激光光斑关于激光光斑对称，或者受激光光斑位于两相邻的激光光斑之间，两相邻的激光光斑关于受激光光斑对称，通过上述设置，能够提升光源系统出光的均匀性，从而提高投影显示的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 系统 以及 投影 显示装置 | ||
【主权项】：
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