[发明专利]光学元件用薄膜及其制造方法、无机偏振片及其制造方法、以及光学元件和光学仪器在审

专利信息
申请号: 202010228330.1 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN111812764A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 菅原利明;高田昭夫 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张桂霞;李志强
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供:作为吸收型无机偏振片等光学元件中使用的单层薄膜的光学元件用薄膜及其制造方法、使用了该光学元件用薄膜的无机偏振片及其制造方法、具备该光学元件用薄膜的光学元件、以及具备该无机偏振片的光学仪器。无机偏振片(20)是具有线栅结构的无机偏振片,具备透明基板(21)和以短于使用频带的光的波长的间距排列在透明基板(21)上的格子状凸部(22),格子状凸部(22)从透明基板(21)侧起依次具有反射层(221)和由本发明的光学元件用薄膜构成的反射抑制层(222)。本发明的光学元件用薄膜含有Si单质、Si化合物(其中,除外Si合金)和金属或金属化合物。
搜索关键词: 光学 元件 薄膜 及其 制造 方法 无机 偏振 以及 光学仪器
【主权项】:
暂无信息
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