[发明专利]一种缓冲结构、掩模台及光刻机有效
| 申请号： | 202010224501.3 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113448174B | 公开（公告）日： | 2023-02-10 |
| 发明（设计）人： | 杨存攀;纪俊洋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种缓冲结构、掩模台及光刻机，所述缓冲结构包括相互连接的第一缓冲座和第二缓冲座；其中，所述第一缓冲座上设有第一柔性簧片组，所述第一柔性簧片组包括至少两个沿第一方向间隔布置的第一柔性簧片；所述第二缓冲座上设有第二柔性簧片组，所述第二柔性簧片组包括至少两个沿第二方向间隔布置的第二柔性簧片，所述第一方向垂直于所述第二方向。该缓冲结构可有效吸收撞击时的冲击，减少元件损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缓冲 结构 掩模台 光刻 | ||
【主权项】：
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