[发明专利]一种缓冲结构、掩模台及光刻机

说明书

本发明涉及一种缓冲结构、掩模台及光刻机，所述缓冲结构包括相互连接的第一缓冲座和第二缓冲座；其中，所述第一缓冲座上设有第一柔性簧片组，所述第一柔性簧片组包括至少两个沿第一方向间隔布置的第一柔性簧片；所述第二缓冲座上设有第二柔性簧片组，所述第二柔性簧片组包括至少两个沿第二方向间隔布置的第二柔性簧片，所述第一方向垂直于所述第二方向。该缓冲结构可有效吸收撞击时的冲击，减少元件损伤。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种缓冲结构、掩模台及光刻机。

背景技术

随着光刻技术的进步和半导体工业的快速发展，对于光刻设备产率的要求日益增高，尤其是对于前道光刻机而言，高精度、高加速和高速度是必然的选择。光刻设备的高加速和高速度与高精度之间又是相互矛盾的，为了解决该矛盾，当前的光刻设备采用了粗动台和微动台相结合的结构，以实现高速和高精度的技术分离。

粗动台用于完成掩模版的大行程扫描曝光运动，微动台用于完成掩模版的精密微调。在掩模版的移动过程中粗动台和微动台之间可能会发生碰撞，而微动台主体一般由价格高昂的微晶玻璃制作，因此当粗动台和微动台发生碰撞时不仅会造成安全隐患，还会导致微动台损坏而增加光刻成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种缓冲结构、掩模台和光刻机，所述缓冲结构可设置于粗动台和微动台之间，用于缓冲粗动台和微动台之间的碰撞作用力，以保护微动台。

为实现上述目的，本发明提供的一种缓冲结构，包括相互连接的第一缓冲座和第二缓冲座；其中，所述第一缓冲座上设有第一柔性簧片组，所述第一柔性簧片组包括至少两个沿第一方向间隔布置的第一柔性簧片；所述第二缓冲座上设有第二柔性簧片组，所述第二柔性簧片组包括至少两个沿第二方向间隔布置的第二柔性簧片，所述第一方向垂直于所述第二方向。

可选地，所述第一柔性簧片组的数量至少为两个，至少两个所述第一柔性簧片组沿第三方向间隔布置；所述缓冲结构还包括第一撞击部，所述第一撞击部设置在所述第一缓冲座上，且在所述第一方向上，所述第一撞击部的至少部分边缘凸出于所述第二缓冲座，在所述第三方向上，所述第一撞击部设置于相邻的两个所述第一柔性簧片组之间，所述第三方向垂直于所述第一方向和所述第二方向。

可选地，所述第一柔性簧片组的数量为两个，所述第一撞击部的数量为一个。

可选地，通过在所述第一缓冲座上开设多个通孔而形成所述第一柔性簧片组，每个所述通孔皆在所述第二方向上贯通所述第一缓冲座。

可选地，所述第一缓冲座上还设置有第一调节机构，所述第一调节机构用于调节所述第一缓冲座的刚性。

可选地，所述第一调节件为螺栓，所述第一缓冲座上设置有沿第一方向贯穿所述第一缓冲座的第一螺纹孔，所述第一调节件设置于所述第一螺纹孔中，通过调节所述螺栓的拧紧程度实现对所述第一缓冲座的刚性的调节。

可选地，所述第二缓冲座包括沿第二方向依次布置的第一子缓冲座、第二子缓冲座和第三子缓冲座，所述第二子缓冲座上设置有至少一个所述第二柔性簧片组，所述第一子缓冲座与所述第二子缓冲座之间设置有第一限位间隙，所述第二子缓冲座与所述第三子缓冲座之间设置有第二限位间隙。

可选地，所述第二子缓冲座上设有两个第二柔性簧片组，两组所述第二柔性簧片组沿所述第二方向布置，且两组所述第二柔性簧片组之间具有分割间隙。

可选地，所述第一子缓冲座上设有至少一个所述第二柔性簧片组。

可选地，通过在所述第二缓冲座开设多个通孔而形成所述第二柔性簧片组，每个所述通孔皆在第三方向上贯通所述第二缓冲座；和/或，

通过在所述第一缓冲座上开设多个通孔而形成所述第二柔性簧片组，每个所述通孔皆在第三方向上贯通所述第一缓冲座；

所述第三方向垂直于所述第一方向和所述第二方向。