[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法

摘要

提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法，提供可形成尺寸精度高的转印用图案的光掩模制造方法，其包括：准备在透明基板上依次形成有光学膜和抗蚀剂膜的光掩模基板的工序；初期显影工序，通过描绘、显影而在抗蚀剂膜形成抗蚀剂图案；预备蚀刻工序，以抗蚀剂图案为掩模，对光学膜实施蚀刻，形成由光学膜得到的预备图案；追加显影工序，在由预备蚀刻工序形成的预备图案的边缘的至少一部分处于与抗蚀剂图案对应的区域内的状态下，对抗蚀剂图案实施追加显影，使抗蚀剂图案边缘后退，使预备图案边缘露出；测定工序，测定预备图案规定部位的尺寸；和追加蚀刻工序，基于测定工序中测定的尺寸确定追加蚀刻量，进一步蚀刻光学膜，形成确定图案。