[发明专利]一种单晶元件制备系统在审
| 申请号： | 202010215137.4 | 申请日： | 2020-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN111246612A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 张辉 | 申请（专利权）人： | 合肥本源量子计算科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H05B6/36 | 分类号： | H05B6/36;H05B6/10;H05B6/06;C30B1/02;C30B29/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种单晶元件制备系统，包括：密闭壳体，还包括：电磁加热装置，设置于所述密闭壳体外部，用于提供电磁加热的交变磁场；加热工装，设置于所述密闭壳体内部，内固定有用于通过高温退火生成所述单晶元件的多晶元件；所述加热工装感应所述交变磁场产生热量，且所述电磁加热装置沿着所述加热工装的延伸方向移动。本申请提供的单晶元件制备系统，升温快，温度梯度可控，加快了晶界的延伸速度，提高制备成的单晶元件的效率和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 元件 制备 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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