[发明专利]宽高比恒定的微结构的制备方法和PDMS弹性体在审
| 申请号： | 202010213903.3 | 申请日： | 2020-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN112110412A | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 时权;巫金波;何仲;温维佳;张萌颖;薛厂 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 石家庄旭昌知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 13126 | 代理人： | 张会强 |
| 地址： | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种宽高比恒定的微结构的制备方法，该方法包括首先利用光刻法选择性曝光制备出表面具有微结构图案的基底，再于微结构图案中填充牺牲层液体，最后倾倒PDMS并固化后得到宽高比恒定的微结构。同时本发明也提供了一种具有由以上方法所制备的微结构的PDMS弹性体。本发明所述的制备方法可在PDMS上制备出宽高比恒定的微结构，且该制备方法仅通过基底表面微结构图案制备、填充牺牲层液体，以及PDMS平铺固化即可完成制备，整体工艺简单，操作简便，有利于推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 恒定 微结构 制备 方法 pdms 弹性体 | ||
【主权项】：
暂无信息
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