[发明专利]一种聚合物模板法制备不规则纳米硅溶胶抛光磨粒的方法在审
| 申请号： | 202010192368.8 | 申请日： | 2020-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN111362273A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 雷红;董越 | 申请（专利权）人： | 昆山捷纳电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/141 | 分类号： | C01B33/141;C09K3/14;C09G1/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 刘玉珠 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种聚合物模板法制备不规则纳米硅溶胶磨粒的方法，包括如下步骤：S01：在搅拌状态下，将去离子水加入球形氧化硅种子中，形成氧化硅种子溶液；S02：配置质量分数为0.75‑5.25％的聚乙二醇水溶液；S03：在搅拌状态下，将所述聚乙二醇水溶液逐滴加入所述氧化硅种子溶液，形成混合溶液；S04：将所述混合溶液加热至沸腾，回流一个小时，所述混合溶液体积通过回流冷凝器保持不变，同时控制所述混合溶液的pH为9‑10；S05：在搅拌状态下，向所述混合溶液中逐滴加入活性硅酸溶液，使得所述球形氧化硅种子致密，冷却至室温，得到不规则纳米硅溶胶。本发明可以克服目前球形硅溶胶磨粒化学机械抛光速率较差的问题，提高产品的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚合物 模板 法制 不规则 纳米 硅溶胶 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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