[发明专利]密封构造和密封件在审
| 申请号： | 202010176130.6 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111828639A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 四十薰;片冈佑介 | 申请（专利权）人： | 纳博特斯克有限公司 |
| 主分类号： | F16J15/3208 | 分类号： | F16J15/3208;F16J15/3284;F16C33/72 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种密封构造和密封件。本发明的密封构造具备：壳体，其具有随着从轴向的外侧朝向内侧去而直径的长度增大的内周部；轴构件，其配置于所述壳体的内部；以及密封构件，其将所述壳体与所述轴构件之间密封。 | ||
| 搜索关键词： | 密封 构造 密封件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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