[发明专利]一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法有效
| 申请号： | 202010172495.1 | 申请日： | 2020-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN111339677B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 谢宏威;贺香华;谢德芳;周聪;陈丛桂 | 申请（专利权）人： | 广州大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F30/17;B25J9/00;G06F111/10;G06F119/18 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郭浩辉;麦小婵 |
| 地址： | 510006 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法，包括如下步骤：步骤S1，根据精密定位平台运动所需的运动自由度设计并联原型机构，运用螺旋理论计算得到该并联原型机构的输入输出映射矩阵；步骤S2，利用步骤S1获得的输入输出映射矩阵进行精密定位平台建模，得到精密定位平台的拓扑优化模型，利用拓扑优化方法得到与所述输入输出映射矩阵相一致的精密定位平台，并得到精密对准平台单元密度分布图；步骤S3，根据步骤S2中得到的精密对准定位平台密度图，提取密度值在预设阈值范围之内的得到理论定位平台，并运用三维建模技术得到可用于实际生产的精密定位平台。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 纳米 压印 光刻 设备 空间 精密 定位 平台 制备 方法 | ||
【主权项】：
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