[发明专利]套刻误差的补偿方法、曝光系统、服务器及可读存储介质在审
| 申请号： | 202010162595.6 | 申请日： | 2020-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN113376969A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 董鹏 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及半导体技术领域，公开了一种套刻误差的补偿方法、曝光系统、服务器及可读存储介质。本发明中，套刻误差的补偿方法应用于晶圆，包括：获取已曝光晶圆的套刻误差；将所述已曝光晶圆划分为若干区域；根据各所述区域对应的套刻误差分别计算各所述区域对应的补偿值；利用所述补偿值分别对待曝光晶圆的相应区域进行补偿。本发明提供的套刻误差的补偿方法、曝光系统、服务器及可读存储介质，能够提高晶圆的套刻误差补偿精度，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 误差 补偿 方法 曝光 系统 服务器 可读 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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