[发明专利]具有再辐射器的RF加热设备有效
申请号: | 202010159871.3 | 申请日: | 2020-03-09 |
公开(公告)号: | CN111720865B | 公开(公告)日: | 2023-10-10 |
发明(设计)人: | 格列高利·J·杜尔南 | 申请(专利权)人: | 恩智浦美国有限公司 |
主分类号: | F24C7/02 | 分类号: | F24C7/02;F24C7/06;F24C7/08 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 倪斌 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种热增加系统可以包括再辐射器,所述再辐射器位于用于容纳负载的腔中。微波能量可以由一个或多个微波生成模块生成,并且在所述热增加系统操作期间朝所述腔引导,从而在所述腔中产生电磁场。系统控制器可以控制耦接在所述再辐射器与对应接地节点之间的开关,以选择性地激活和去激活所述再辐射器。所述系统控制器可以控制耦接在一对再辐射器之间的开关,以重新分布所述腔中的所述电磁场。移相器可以位于一对再辐射器之间,这可以为在所述再辐射器之间传递的能量提供相移。所述移相器可以是可变移相器,所述可变移相器根据从所述系统控制器接收的命令对所述能量施加可变相移。 | ||
搜索关键词: | 具有 辐射器 rf 加热 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩智浦美国有限公司,未经恩智浦美国有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010159871.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于热系统的控制系统和用于运行热系统的方法
- 下一篇:电压参考电路