[发明专利]一种低背景线性副产物的环形RNA过表达框架及其构建方法有效

专利信息
申请号: 202010151617.9 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN111304195B 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 刘明;黄宁宁;李自强;刘景磊 申请(专利权)人: 广州吉赛生物科技股份有限公司
主分类号: C12N15/11 分类号: C12N15/11;C12N15/63
代理公司: 广州艾维专利商标代理事务所(普通合伙) 44739 代理人: 黄强
地址: 510000 广东省广州市高新技术产业开*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种低背景线性副产物的环形RNA过表达框架,通过在环形RNA过表达框架中加入shRNA‑NC靶标序列和U6‑shRNA‑NC序列,使环形RNA高效准确剪切成环不受影响,并降解未成环的上下游框架序列(线性副产物pre‑mRNA)使其丰度降低2‑5个数量级,即在环形RNA高效准确过表达的前提下保持无或极低的背景副产物,从而避免线性副产物pre‑mRNA可能对circRNA行使功能造成的干扰或影响,使实验设置更严谨,结果更可靠,为环形RNA的功能研究提供一种更有优势的技术方法。
搜索关键词: 一种 背景 线性 副产物 环形 rna 表达 框架 及其 构建 方法
【主权项】:
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