[发明专利]一种采用冷喷涂制备Ta／Al复合抗辐照涂层的方法在审
| 申请号： | 202010143441.2 | 申请日： | 2020-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN111235563A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 熊天英;唐俊榕;杜昊;王吉强;刘晗珲;沈艳芳;杨颖;毛天亮 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23C24/04 | 分类号： | C23C24/04;B22F1/00;B22F9/04;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于防护涂层制备领域，具体涉及一种采用冷喷涂制备Ta/Al复合抗辐照涂层的方法。该方法包括如下步骤：(1)将Ta粉与Al粉按照质量比(0.1～20)：1混合配成复合粉末；(2)采用冷气动力喷涂设备，将制备的复合粉末喷涂到待防护器件基体表面，形成Ta/Al复合涂层。本发明方法可以制备用于电子封装外表面的抗辐照涂层，并兼顾了空间辐照粒子的不同能量范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 喷涂 制备 ta al 复合 辐照 涂层 方法 | ||
【主权项】：
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