[发明专利]一种溶剂诱导的光响应聚合物表面微纳结构的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202010135620.1 申请日: 2020-03-02
公开(公告)号: CN111333023B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 于海峰;杨博闻;王文忠 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B82Y40/00
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 代理人: 李稚婷
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种溶剂诱导的光响应聚合物表面微纳结构的制备方法及应用。根据光响应聚合物受到较短波长光照Tg下降,而受到较长波长光照Tg回复的性质,利用具有光栅结构的光学掩膜版,通过光照在聚合物薄膜表面形成周期性的“反式‑顺式‑反式‑顺式”异构排列结构,对应周期性的“高Tg‑低Tg‑高Tg‑低Tg”排布;然后将薄膜在不良溶剂中浸泡或熏蒸,由于马拉高尼效应及溶胀等溶剂化作用,薄膜发生质量迁移,形成表面起伏的微纳结构。本发明不仅可以简单方便地制备大面积的表面微纳结构,还可以利用表面微纳结构的潜伏和显形两阶段特点实现防伪识别的应用效果。
搜索关键词: 一种 溶剂 诱导 响应 聚合物 表面 结构 制备 方法 应用
【主权项】:
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