[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010120716.0 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN112447476A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 江村和也 | 申请（专利权）人： | 铠侠股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施方式的等离子体处理装置具备：处理容器，对衬底进行处理；电源，向处理容器内供给电力，从而产生等离子体；上部电极，设置在处理容器内；衬底载置台，具有与上部电极对向的下部电极，并供载置衬底；边缘环，配置在衬底载置台的外缘部，并包围衬底的周围；及驱动机构，上下驱动边缘环的至少一部分；边缘环具有：下部环，载置在衬底载置台的外缘部上；上部环，载置在下部环上，并通过驱动机构上下移动；及辅助环，能够与上部环一同上下移动地配置在上部环的下表面，并具有面向朝着处理容器内开放的一侧的面。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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