[发明专利]一种面向云掩膜的非均匀类别的样本均衡化方法有效

专利信息
申请号: 202010099382.3 申请日: 2020-02-18
公开(公告)号: CN111291818B 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 吴炜;高星宇;范菁;沈瑛;夏列钢;葛炜炜 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: G06V10/774 分类号: G06V10/774;G06V10/764;G06K9/62;G06N20/00
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种面向云掩膜的非均匀类别的样本均衡化方法,包括:步骤1:数据预处理与样本获取;步骤2:样本分组;步骤3:云掩膜模型训练;步骤4:分类器掩膜与评价;步骤5:迭代训练;步骤6:云掩膜;步骤7:掩膜数据后处理。本发明采用的样本均衡化方法,有效的解决了遥感影像中云类别不均匀而导致的样本失衡,实现对影像中各种类型云的有效识别和分割,从而提高云掩膜精度;选择性地输入样本,这可以突出缺失或错误检测的样本的影响,从而增强小类别样本,从而有效地调整深度学习模型所提取的特征,解决小类别云漏检或误检问题。
搜索关键词: 一种 面向 云掩膜 均匀 类别 样本 均衡 方法
【主权项】:
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