[发明专利]一种高压电子束曝光机用真空锁装置在审
| 申请号： | 202010094731.2 | 申请日： | 2020-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN111290220A | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 邓玮 | 申请（专利权）人： | 邓玮 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F16K3/02;F16K3/314;F16K3/30;F16K27/04;F16K31/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 416000 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空设备技术领域，且公开了一种高压电子束曝光机用真空锁装置，包括真空腔体，所述真空腔体的底面开设有两个通孔且底部固定连接有插板阀一，所述插板阀一底部的左侧固定连接有二级送片室，所述真空腔体底部左侧的通孔通过插板阀一与二级送片室连通。通过二级送片室和一级送片室的设置，对样品的输送分为三级，依次为外界与一级送片室的交换、一级送片室与二级送片室之间的交换、二级送片室与真空腔体之间的交换，依次平衡外界与真空腔体中的真空差，有效保证真空腔体中的真空度不受波动，进而保证样品曝光的质量，同时无需考虑传统真空锁中样品杆的加工难易，并有效减少了有运动部件与外界接触而造成的真空泄露。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高压 电子束 曝光 真空 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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