[发明专利]盖形成装置有效

专利信息
申请号: 202010088527.X 申请日: 2020-02-12
公开(公告)号: CN111559554B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 中村雄一;岩佐达也;高桥淳;立川聪;西辻悟史;有松辰也;小野晃嗣 申请(专利权)人: 株式会社石田
主分类号: B65B7/24 分类号: B65B7/24
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 李丹
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种盖形成装置,易于在瓦楞纸箱的折翼的狭缝中插入其他折翼的一部分的结构。在盖形成装置(340)中,使弯折的第二大折翼(Zfa2)伸展,从而第二大折翼(Zfa2)的前端进入第一小折翼(Zfa3)的狭缝(S1t3)以及第二小折翼(Zfa4)的狭缝(S1t4),因而不会对第二大折翼(Zfa2)施加过多的负载,且第二大折翼(Zfa2)也不会弯曲,其前端成为易于插入第一小折翼(Zfa3)的狭缝(S1t3)以及第二小折翼(Zfa4)的狭缝(S1t4)。
搜索关键词: 形成 装置
【主权项】:
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