[发明专利]微光刻投射曝光设备有效
| 申请号： | 202010074574.9 | 申请日： | 2020-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN111487848B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | B.克莱因 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 微光刻投射曝光设备(10；110)被配置为在曝光过程期间在扫描方向(28)上移动基板台(26)，并且包括：投射镜头(30)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基板(24)上，具有操纵装置(36)，该操纵装置(36)被配置为在至少两个方向上彼此独立地改变投射镜头的成像比例；以及控制设备(46)，被配置为通过在扫描方向上和横向于扫描方向对操纵装置进行适当控制，来对成像比例执行不同的校正。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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