[发明专利]一种织构化类金刚石碳基薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202010052653.X | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111139430B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 何东青;尚伦霖;李文生;张广安;成波;张辛健 | 申请（专利权）人： | 兰州理工大学;中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/04;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 赵晓琳 |
| 地址： | 730050 甘肃*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种织构化类金刚石碳基薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明提供一种利用金属网筛栅遮挡金属基体表面的方法，简单便捷地原位制备织构化DLC薄膜，金属基底表面的金属网筛并非与基底紧密贴合，而是与基底留有一定间隙，且间隙尺寸严格控制，利用此间隙实现沉积空间等离子体密度的重新分布，使金属网栅遮挡区域与基体间隙处的等离子体密度增加，从而提高此区域的沉积速率，而未遮挡区域沉积速率不变，导致遮挡区域薄膜厚度大于未遮挡区域，从而在薄膜沉积过程中原位形成织构化表层，薄膜本身连续完整，不存在未覆盖区域，且织构坑形状、密度和深度均可通过沉积工艺的调控实现可控调节。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 织构化类 金刚石 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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